NF3是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅的蝕刻，采用NF3和CF4＋O2的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無污染。氫與NF3反應(yīng)，在瞬間伴隨放出大量的熱，這就是NF3在高能化學(xué)激光器方面大量應(yīng)用的原理。在高溫下，NF3與有機(jī)化合物反應(yīng)常伴有爆炸性，操作時(shí)應(yīng)十分謹(jǐn)慎。